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QWLO系列

QWLO系列石英多級波片

ZOLIX提供的石英多級波片采用高品質(zhì)石英晶體制作，二分之一波片利用雙折射效應(yīng)實現(xiàn)半波延遲。四分之一波片實現(xiàn)對光偏振態(tài)的高精度控制，可將線偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光。與零級波片相比，多級波片在實現(xiàn)偏振旋轉(zhuǎn)的同時，疊加了整波延遲，因此對波長和溫度更敏感，適用于光源穩(wěn)定性要求較高的場合。

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產(chǎn)品概述

QWLO系列石英多級波片 產(chǎn)品特點：

高純度石英晶體，光學(xué)性能穩(wěn)定
提供裸片與安裝件兩種形式，安裝型外殼刻有型號、工作波長及快軸方向，方便識別
應(yīng)用領(lǐng)域：激光偏振控制、光學(xué)實驗與檢測、光通信系統(tǒng)等

石英多級二分之一波片，未安裝

型號	延遲量	波長	通光孔徑	材料	尺寸公差	相位延遲精度	表面光潔度	波前畸變	平行度	增透膜	損傷閾值
QWLO20-266-2A	λ/2	266nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-355-2A	λ/2	355nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-532-2A	λ/2	532nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-633-2A	λ/2	633nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-780-2A	λ/2	780nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1030-2A	λ/2	1030nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1064-2A	λ/2	1064nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1550-2A	λ/2	1550nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns

石英多級二分之一波片，帶安裝

型號	延遲量	波長	通光孔徑	材料	尺寸公差	相位延遲精度	表面光潔度	波前畸變	平行度	增透膜	損傷閾值
QWLO20-266-2M1	λ/2	266nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-355-2M1	λ/2	355nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-532-2M1	λ/2	532nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-633-2M1	λ/2	633nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-780-2M1	λ/2	780nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1030-2M1	λ/2	1030nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1064-2M1	λ/2	1064nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1550-2M1	λ/2	1550nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns

石英多級四分之一波片，未安裝

型號	延遲量	波長	通光孔徑	材料	尺寸公差	相位延遲精度	表面光潔度	波前畸變	平行度	增透膜	損傷閾值
QWLO20-266-4A	λ/4	266nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-355-4A	λ/4	355nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-532-4A	λ/4	532nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-633-4A	λ/4	633nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-780-4A	λ/4	780nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1030-4A	λ/4	1030nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1064-4A	λ/4	1064nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1550-4A	λ/4	1550nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns

石英多級四分之一波片，帶安裝

型號	延遲量	波長	通光孔徑	材料	尺寸公差	相位延遲精度	表面光潔度	波前畸變	平行度	增透膜	損傷閾值
QWLO20-266-4M1	λ/4	266nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-355-4M1	λ/4	355nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-532-4M1	λ/4	532nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-633-4M1	λ/4	633nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-780-4M1	λ/4	780nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1030-4M1	λ/4	1030nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1064-4M1	λ/4	1064nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns
QWLO20-1550-4M1	λ/4	1550nm	Ø20.0mm	石英晶體	+0.0/-0.25mm	＜λ/300	10/20	λ/10@632.8nm（有效通光孔徑內(nèi)）	≤3″	R＜0.25%	2MW/cm2，2J/cm2，10ns